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光刻膠處理中的四大烘烤工藝之——HMDS烤箱預烘烤

更新時間:2025-05-28   點擊次數:157次
  光刻膠處理中的四大烘烤工藝——基板預烘烤、軟烘、曝光后烘烤與硬烘
 
  涂膠前的烘烤
 
  構建牢靠的膠基結合
 
  基板表面處理是光刻膠附著的首要環節。當溫度升至100°C時,基材表面吸附的水分子(H?O)開始脫附,這一過程能有效消除“水膜屏障”,避免光刻膠與基板間因水分殘留導致的結合力下降。硅、玻璃、石英等氧化表面的羥基(-OH)會導致親水性表面,降低光刻膠附著力,而溫度進一步升至150°C以上時,羥基(-OH)會發生熱裂解反應,從而進一步提升光刻膠與基板的結合力。
 
  ① 低溫段推薦120°C烘烤3-5分鐘,高溫段需避免過久導致基板氧化加劇。
 
  ②使用上海雋思HMDS烤箱HMDS增粘劑預處理可達到類似高溫烘烤的效果。
 
  ③ 涂膠應在基板冷卻后立即進行以防止水分再吸附,但需確保基板恢復室溫以保證膠膜均勻性。
 
  HMDS烤箱預烘烤工藝
 
  HMDS烤箱將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、碳化硅/硫化鋅/磷化銦/生物晶圓等材料表面后,經烘箱加溫氣相沉積在襯底表面。它成功地將硅片表面由親水變為水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
 
  可以很好地改善光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕等煩惱。
 

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