無塵烤箱廠家無塵等級：Class 100、10; 溫度范圍：RT+10～300℃；用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤
清潔烤箱，無塵烤箱用于IC生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數是非常重要的，無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂（PI）烤箱腔內的氣體保持相當干凈（100級），良好的溫度均勻性。通過氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優異工藝結果。
無塵室烤箱，半導體無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；HMDS無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
無塵室干燥箱，試驗用百級烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
加工半導體用烤箱， SECS / GEM無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后固化、堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門；可以使用TCP / IP（使用HSMS標準，SEMI E37）或基于RS-232的協議與支持GEM的主機進行通信。通常這兩種協議都受支持。每臺設備都可以使用由GEM
無塵烘箱，不銹鋼無塵烤箱無塵等級：Class 100、10; 溫度范圍：RT+10～300℃；用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤
