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hmds真空鍍膜機，光刻hmds鍍膜烤箱的用途： hmds真空鍍膜機通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS鍍膜機，黃光區鍍膜設備通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

硅片HMDS涂布機臺，4寸Wafer hmds烤箱是將 HMDS 涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水， 其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。

HMDS鍍膜烤箱，HMDS真空鍍膜系統預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。

智能型HMDS烤箱定做，不銹鋼HMDS烘箱預處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設定，一鍵完成作業。

將HMDS涂到樣品表面后，經烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變為疏水性，此疏水性能HMDS烘箱，hmds預處理烘箱夠很好的與光刻膠結合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。

HMDS真空烘箱處理系統：性能更好，由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。