12寸HMDS真空烤箱，芯片HMDS烘箱過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

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廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-09-16
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產(chǎn)品詳情

12寸HMDS真空烤箱，芯片HMDS烘箱用途：

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱適用行業(yè)：

適用于LED芯片、硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS烘箱，HMDS真空烤箱技術(shù)參數(shù)

工作室尺寸	350×350×350、450×450×450、850×850×850（mm）可自定義
材質(zhì)	外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或304不銹鋼，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼
溫度范圍	RT+10-250℃
真空度	≤133pa（1torr）
潔凈度	class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境
控制儀表	人機(jī)界面
擱板層數(shù)	2層
HMDS控制	可控制HMDS藥夜添加量
真空泵	旋片式油泵（可選配進(jìn)口無(wú)油泵）
保護(hù)裝置	HMDS低液位報(bào)警，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等

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