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PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱 工業烘箱

PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱 工業烘箱

簡要描述:

PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱用于光刻膠BCB,聚酰亞胺CPI固化,LCP纖維熱處理、晶圓干燥烘烤等工藝

PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱

PI固化爐用于光刻膠BCB,聚酰亞胺PI固化,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導體、MEMS微機電、TFT/LCD等半導體相關行業。


通用性,全自動運行真空固化,2寸-12寸/碎片兼容。

保證性強,可達5PPM氧氣下實現真空固化。

時效性,多功能冷卻方式,縮短了工藝時間,降低成本,提高生產能力。

能耗低,真空狀態固化,節約了80%N?量。

無污染,腔體內部所有材料均為316L醫用級不銹鋼,無任何顆粒產生。


PI亞胺化厭氧爐,PI真空厭氧烤箱

溫度:MAX400度

真空度:低于100Pa

操作:彩色人機界面,一鍵運行

冷卻方式:水冷卻+風冷

氣路:1路N2

程序模式:程序運行10個,每個程序可設置25步

隔熱材料:陶瓷纖維

工作腔:1/2/4/8可選

PI亞胺化厭氧爐工藝要求(參考):

  1. 在低氧狀態下使用

  2. 真空加熱,升溫至1xx℃

  3. 再溫至1xx℃(約xh),保溫約 30min;

  4. 繼續升溫至x00℃,視涂層厚度不同加熱10-x0min

  5. 保溫 約60min;

  6. 降溫至100℃以下




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