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水冷無氧化烘箱，高溫無氧烘箱升溫方式：程序線性升溫 降溫方式：風冷+水冷輔助降溫 氧含量：氧含量≤20ppm

真空無氧烤箱，無氧化真空烘箱用于光刻膠BCB，聚酰亞胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纖維熱處理，

前烘氮氣烘箱，硬烘潔凈烘箱優化光刻膠的光學吸收特性，提高光刻膠對襯底的黏附性

外延片烘箱，氮氣潔凈烘箱延片將所述外延片放入烘箱中,在120℃～140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10～30分鐘

墨點烘箱，墨點氮氣烘箱是半導體行業，芯片加工工藝流程中打墨點工藝后，將硅片放入烘箱進行墨點烘干專用設備。

堅膜烘箱，氮氣堅膜烤箱的作用是在一定的溫度下,對顯影后的襯底進行烘焙。這將使光刻膠的表面在表面張力的作用下而圓滑化,并使光刻膠層中的缺陷(如針孑L)因光刻膠表面的圓滑化而減少,并可借此修正光刻膠圖形的邊緣輪廓。

無氧固化爐,高溫無氧化固化烤箱應用半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產。主要用于PI/CPI固化，BCB固化，PBO固化，LCP纖維熱處理。